2026년 EUV 노광 공정에서의 수율 향상 핵심 메커니즘

EUV(극자외선) 노광 공정은 공기를 포함한 모든 물질에 흡수되는 EUV 광원 특성상, 챔버 내부를 초고진공 상태로 유지해야 합니다. 2026년 초미세 2nm 이하 패터닝 라인에서 진공도 제어 실패는 EUV 광 투과율 하락과 임계치수(CD) 변형 결함을 유발합니다. 현장 엔지니어들은 진공 펌프와 연결된 챔버 배관에 고정밀 진공 센서를 설치하고 압력 데이터를 지속적으로 모니터링합니다.

미세한 압력 변화를 제어 시스템에 전달하고 즉각적인 알람을 발생시키는 디스플레이 유닛의 성능이 공정 수율을 좌우합니다. NAK는 EUV 진공 챔버의 데이터 가시성과 제어 능력을 높이기 위해 NAGANO KEIKI GC91 디지털 패널 미터를 공급합니다. 이 기기는 5 1/2 자리(-20000 ~ 100000)의 고해상도 LCD를 탑재하여 초고진공 영역의 압력 수치를 왜곡 없이 표시합니다.

설비 담당자는 GC91의 4채널 릴레이(또는 포토 MOS 릴레이) 콤퍼레이터 출력을 활용하여 진공도 저하 시 0.5초 이내에 인터락(Interlock)을 가동합니다. 패널 전면의 녹색/적색 디스플레이 색상 전환 기능은 클린룸 작업자가 직관적으로 이상 여부를 인지하도록 돕습니다. IP66 등급의 방수방진 전면 패널은 가혹한 제조 환경에서도 기기 손상을 막아줍니다.

진공 센서와 GC91 패널 미터를 결합한 압력 모니터링 시스템은 EUV 광원 손실을 막고 웨이퍼 패턴 불량을 사전 차단하는 핵심 장치입니다.